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將刻蝕氣體通入刻蝕設備的腔室內(nèi),對SiC襯底進行刻蝕其中,所述刻蝕氣體包括含氟氣體、O 2 和HBr(溴化氫) 氣體。本發(fā)明所提供的碳化硅襯底的刻蝕方法中,刻蝕氣體 2 三環(huán)微粉采用密度泛函(B3LYP)方法,以及6311++G(2df,2pd)基組優(yōu)化出了單態(tài)HBr2+離子的結(jié)構(gòu)參數(shù)、離解能和力常數(shù)。在此基礎上,利用多體項展式方法導出了HBr2+(C 詳情 中山大學。
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